Auflösungstests für High-End-Mikroskop-Objektive
Kleinste Strukturgrößen dank E-Beam-Lithographie
- Strukturgrößen bis zu 100 nm
- Optimaler Kontrast durch hohe optische Dichte
- Robuste Ausführung für den täglichen Einsatz
Auflösungstests aus der Technologie Manufaktur – hergestellt mit der besten Technologie weltweit
All unsere Testcharts werden mit hochpräziser E-Beam-Lithographie gefertigt. Der 10 x 10 mm² große Träger besteht aus Quarzsubstrat, das eine sehr breite spektrale Transmission vorweisen kann (DUV-VIS-NIR). Auf das Substrat ist eine Chromschicht mit hoher optischer Dichte aufgetragen.
Die Teststrukturen werden durch die Abtragung der Chromschicht erzeugt, wobei durch das E-Beam-Verfahren Strukturgrößen bis zu 100 nm, eine exzellente Maßhaltigkeit und Geradheit der Strukturkanten verwirklicht werden können. Durch die Abtragung der Chromschicht sind die Strukturen auf dem Test Slide transparent, während der Hintergrund von der verbleibenden Chromschicht geblockt wird.
Die Auflösungstests sind in einen robusten Objektträger aus Edelstahl mit einer Standardgröße von 75 x 25 mm² eingesetzt. Für die Prüfung von Mikroskop-Objektiven bieten wir eine Version mit einem 0,17 mm starken Deckglas an.
bis zu 100 nm
OD6 @550 nm
190 nm – 2000 nm
Aus der Technologie Manufaktur. Höchste Präzision durch E-Beam-Lithographie
Produktspezifikationen:
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Auflösungstest TC-RT01
Mit dem Auflösungstest TC-RT01 bestimmen Sie einfach und schnell die Auflösungsgrenze eines Objektivs im Durchlicht. Dabei ermöglichen Ihnen die übersichtlich angeordneten Strichmuster-Gruppen mit Größenangaben eine intuitive Handhabung. Mit den 5 zusätzlichen Pinholes charakterisieren Sie darüber hinaus die Abbildungsfehler einer Optik.
• Für Auflösungstest mit Durchlicht
• 59 Strichmuster-Gruppen: 7,5 – 3300 LP/mm
• 3300 LP/mm benötigt ein Immersionsobjektiv oder UV-Licht
• 5 Pinholes (Ø 4,0 µm – 0,25 µm)
Preis: 1050,- Euro zzgl. Umsatzsteuer
Siemensstern TC-RT02
Der Auflösungstest TC-RT02 eignet sich besonders für Mikroskop-Objektive mit sehr hoher numerischer Apertur, denn die präzise gefertigten Segmente im Zentrum der 5 Siemenssterne erreichen eine minimale Breite von 150 nm. Die zusätzlichen Mess- und Positionsmarken auf dem Testchart erleichtern Ihnen eine exakte Justage.
- Für Mikroskop-Objektive mit
- 5 Siemenssterne
- Minimale Breite im Zentrum: 150 nm
- Zusätzliche Mess- und Positionsmarken
Preis: 1050,- Euro zzgl. Umsatzsteuer
Fluoreszierender Auflösungstest TC-RT03fl
Mit diesem fluoreszierenden ultrahochauflösenden Testchart kann die Auflösungsgrenze und MFT von High-End-Mikroskopobjektiven über das gesamte Sehfeld bestimmt werden. Linien mit einem Abstand von bis herunter zu 200 nm (5000 Linienpaare pro mm) in horizontaler und vertikaler Ausrichtung ermöglichen es, bis an die Auflösungsgrenze der besten verfügbaren Ölimmersionsobjektive zu kommen.
- Mit Deckglas für Durchlicht- und Weitfeld-Fluoreszenzmikroskopie
- Auch für Laser-Scanning-Mikroskope
- Kein Ausbleichen des Tests (YAG:Ce Kristall)
- Liniengruppen von 75 – 5000 Linien/mm (200nm Pitch)
- Felder mit 20×20 Pinholes für Objektive von 10x bis 100x
- Felder mit Quadraten für slanted-edge MTF
Preis: 1700,- Euro zzgl. Umsatzsteuer
Auflösungstest TC-RT03mat für Materialmikroskopie
Dieser Testchart ist wie der TC-RT03fl gestaltet, hat aber kein Deckglas und kann so für High-End-Materialmikroskopie-Objektive benutzt werden.
- Ohne Deckglas für Weitfeld- und Laser-Scanning-Mikroskope
- Liniengruppen von 75 – 5000 Linien/mm (200nm Pitch)
- Felder mit 20×20 Pinholes für Objektive von 10x bis 100x
- Felder mit Quadraten für slanted-edge MTF
Preis: 1.500,- Euro zzgl. Umsatzsteuer
Schachbrett TC-CB50
Unser Auflösungstest TC-CB50 bietet Ihnen 100 Felder mit je einer Größe von 50 x 50 µm² und ist damit insbesondere für die Prüfung von Verzeichnungen und Bildfeldwölbungen geeignet. Die sehr scharfen Kanten der Felder erlauben Ihnen darüber hinaus beispielsweise die Bestimmung der lokalen Abbildungsqualität einer Kamera, mit unserem Softwarepaket ermitteln sie Modulationstransferfunktionen.
• Prüfung von Verzeichnung und Bildfeldwölbung
• Ermittlung lokaler Abbildungsqualität
• Ermittlung der MTF mit unserem hauseigenen Softwarepaket
• Größe insgesamt: 9,0 x 9,0 mm²
• Felder: je 50 x 50 µm²
Preis: 950,- Euro zzgl. Umsatzsteuer
HighTech von der Technologie Manufaktur: Präzision durch E-Beam-Lithographie
Um die Auflösung von High-End-Mikroskopen prüfen zu können, müssen die Auflösungstests kleinste und hochpräzise Strukturen vorweisen, die mit herkömmlichen photolithographischen Mitteln nicht umgesetzt werden können.
Deshalb setzen wir in der Herstellung unserer Auflösungstests auf modernste E-Beam-Lithographie, die sonst vor allem in der Halbleiterindustrie Anwendung findet. Hier werden die einzelnen Strukturen mit einem Elektronenstrahl auf die Wafer geschrieben.
Diese Next-Generation-Lithographie ist zwar zeit- und kostenaufwendig, ermöglicht aber eine unvergleichliche Präzision der Strukturen.
Die Fertigung mit Elektronenstrahllithografie muss in einem Reinraum stattfinden, da schon wenige Partikel die Strukturierung der Chromschicht stören können.